设备名称：小型匀胶机/旋涂仪

设备型号：Cchip-4

1. Cchip-4小型匀胶机介绍

匀胶机（Spin Coater）也称旋涂仪，是一种用于在基片（如硅片、玻璃、金属等）表面均匀涂覆薄膜的设备。它通过高速旋转产生的离心力，将液态材料（如光刻胶、聚合物溶液等）均匀分布在基片表面，形成厚度一致且可控的薄膜。可广泛用于半导体制造、光电子器件、微纳加工与MEMS（微机电系统）、光学薄膜制备、生物芯片传感器等领域。

在半导体、微流控芯片制作以及光学器件制造等领域，匀胶工艺对设备精度和稳定性要求极高。Cchip-4小型匀胶机采用先进设计理念与精密运动控制系统，专为满足复杂工艺需求打造。该设备设计小巧，可轻松安装在手套箱、通风橱等特定环境中，适用场景广泛。在性能方面，最大转速可达 12000 RPM（空载），转速精度控制在 ±1 RPM，最大加速度为 99999 RPM/S（空载），能够实现高精度、高均匀度的匀胶操作。Cchip - 4小型匀胶机不仅具备出色的硬件性能，还为用户提供全面的服务支持，针对不同客户需求，还可提供载物盘定制服务，协助客户快速解决匀胶工艺难题，获得理想的匀胶效果。

2. Cchip-4小型匀胶机性能特点

(1) 高灵敏度7英寸彩色触摸屏，界面直观、便捷

(2) 适配一次性溢胶盘，替换方便，节省时间

(3) 可拆卸透明盖，既可以观察，也可以兼容流水线作业

(4) 标配常用吸盘，适配多种基片尺寸，兼容性强

(5) 真空吸附增强技术，高转速下也能牢固吸附基片。

(6) 采用精密运动控制算法，控速精准，匀胶稳定

(7) 高强度铝合金载物盘，表面平整，防底物位移，保障匀胶均匀

(8) 匀胶过程支持10个分段号，每个分段可独立设置参数，满足多样化工艺需求

3. Cchip-4小型匀胶机性能参数

4. 匀胶机的应用场景

(1) 半导体制造：

用于在硅片表面均匀涂覆光刻胶，为光刻工艺提供高质量的薄膜层。

在晶圆制造中，用于涂覆抗反射层、绝缘层等。

(2) 光电子器件：

在LED、太阳能电池、显示面板等制造过程中，用于涂覆功能性薄膜（如透明导电层、钝化层等）。

(3) 微纳加工与MEMS（微机电系统）：

用于在微纳尺度器件表面涂覆光刻胶或其他功能性材料，支持微结构的加工与制造。

(4) 科研与实验室：

在材料科学、化学、物理学等领域的实验中，用于制备均匀的薄膜样品，如聚合物薄膜、纳米材料涂层等。

(5) 光学薄膜制备：

用于涂覆光学器件（如透镜、滤光片等）表面的抗反射膜、增透膜等功能性涂层。

(6) 生物医学领域：

在生物芯片、传感器等设备制造中，用于涂覆生物相容性材料或功能性涂层。

(7) 印刷电子与柔性电子：

在柔性基材（如塑料薄膜）上涂覆导电墨水、绝缘层等，用于制造柔性电路、传感器等。