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机械剥离氧化铝基底二硒化钨
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  • 货号 101052
  • 品牌 先丰纳米 ( 经销商 )
  • CAS号 7440-33-7
  • 规格/包装 1 盒
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  • 现货状态 两周

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产品名称 中文名称: 机械剥离氧化铝基底二硒化钨 英文名称:Mechanical exfoliation WSe2 on Al2O3 性质 形态:薄膜 参数 基底:氧化铝 基底尺寸:10 mmx10 mm 单个WSe2面积: ≥10 µm2 应用 先丰纳米最新推出机械剥离制备的二硒化钨,该类材料具有缺陷少,优异的光学性质,可以研究层数和荧光效应,此外,由于保持了原有晶格结构,所以该类材料是制备器件的理想材料。
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